homakoll 248 (Клей для коммерческого линолеума, водно-дисперсионный.)

Специально разработан и предназначен для гомогенного и гетерогенного (коммерческого) линолеума из ПВХ к основаниям, впитывающим воду (бетон, цементная стяжка, дерево, ДСП, ДВП), на сырой клеевой слой.

Требования к основанию

Основание должно быть очищенным от остатков старого клея, мастики, пыли, жиров и масел; выровненным и просушенным. Рекомендуемая влажность – не выше 5% для цементной, полимерцементной и асбоцементной основы, для  древесной основы (дерево, ДСП, ДВП) не выше 8%. Не рекомендуется укладка покрытия непосредственно на загрунтованную поверхность основания, без нанесения на нее слоя шпатлевки или нивелирующей смеси (например, homakoll 555), толщиной менее 3мм (из-за уменьшения впитывающей способности основания). В случае очень рыхлого основания допускается применение глубоко проникающей грунтовки, не запирающей поры (например, homakoll 05) для уменьшения впитывания воды. Температура основания должна быть не ниже 15?С. При выполнении работ по подготовке основания необходимо соблюдать требования СНиП 3.04.01-87 «Изоляционные и отделочные работы».

Применение

Перед приклеиванием напольное покрытие должно быть раскроено в соответствии с местом приклеивания и выдержано на плоской поверхности в раскатанном состоянии для распрямления и удаления заломов. Клей полностью готов к применению. Перед использованием тщательно перемешать. Допускается образование полимерной пленки на поверхности клея. Перед применением пленку необходимо удалить. Нанесение клея на подготовленное основание рекомендуется зубчатым шпателем А2 или В1. Напольное покрытие укладывается на сырой клеевой слой. Уложенное напольное покрытие необходимо прижать путем прикатывания или приглаживания. Укладку напольных покрытий производить при температуре воздуха не ниже 15?С и влажности не выше 75%. Сварку стыков линолеума производить не ранее, чем через 48 часов. В течении 72 часов после приклеивания не рекомендуется подвергать клеевое соединение нагрузкам на отрыв или на сдвиг.